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台积电与三星的 GAA 制程技术之争,由制程延伸到专利

Posted on2021/07/19 2021/08/27.by licai_backstage.Posted in未分类.

日前晶圆代工厂南韩三星宣布,3 奈米闸极全环电晶体(Gate-all-around,GAA)制程成功流片,晶圆代工龙头台积电也预计 2 奈米采用 GAA 制程技术,现在两家全球制程最先进的晶圆代工厂,不仅要比技术力,还将把竞争范围扩及专利。… more

2021/07/19 | 资料来源:科技新报

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