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華為申請專利攻5奈米晶片 攜手新凱來突破美科技圍堵

力求突破美國科技圍堵,華為攜手大陸晶片製造設備開發商新凱來技術公司,為一種技術含量低但能有效製造先進半導體的方法申請了專利,在沒有最先進極紫外光(EUV)曝光設備的情況下,也可以生產出5奈米晶片。… more

2024/03/24 | 資料來源:聯合新聞網