港媒報導，大陸科技大廠華為技術一項於2022年提交的專利，近日引發市場熱議，內容顯示該公司正開發一種無須使用極紫外光（EUV）曝光機，即可達到媲美2奈米製程的技術水準。這項消息使得外界對於華為是否在先進晶片領域，取得潛在突破的揣測，再度甚囂塵上。…more

資料來源：工商時報